特許
J-GLOBAL ID：200903059352445460

汚水処理装置

発明者：
森泉 雅貴

森泉 雅貴 について

, 
近藤 文剛

近藤 文剛 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-238610
公開番号（公開出願番号）：特開2001-062463
出願日： 1999年08月25日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：
【要約】【課題】 確実に汚水処理能力を発揮できる汚水処理装置を提供する。【解決手段】 活性汚泥槽61内の処理水は、電解槽70に送られる。電解槽70は、電極71,72を備え、これらの電解により、電解槽70に、鉄イオンまたはアルミニウムイオンが供給される。電解槽70では、リン化合物が凝集する。電解槽70の凝集物は、活性汚泥槽61に送られる。活性汚泥槽61には、磁石61aが備えられている。そして、電解槽70内で生じたリン化合物の凝集物は、磁石61aに吸着する。
請求項（抜粋）：
汚水を処理する汚水処理装置であって、汚水を収容する汚水処理部を含み、前記汚水処理部は、磁気部材からなる吸着手段を備える、汚水処理装置。
IPC (9件)：
C02F 1/48 ,  B03C 1/00 ,  B03C 1/28 ,  C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/58 ,  C02F 3/00 ,  C02F 3/12 ZAB
FI (8件)：
C02F 1/48 A ,  B03C 1/00 A ,  B03C 1/28 ,  C02F 1/52 K ,  C02F 1/58 R ,  C02F 3/00 B ,  C02F 3/12 ZAB E ,  C02F 1/46 102
Fターム (52件)：
4D027AB03 ,  4D027AB16 ,  4D028AA08 ,  4D028AB00 ,  4D028BA00 ,  4D028BB07 ,  4D028BD17 ,  4D038AA08 ,  4D038AB46 ,  4D038AB47 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB10 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4D038BB19 ,  4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC13 ,  4D061EA06 ,  4D061EB01 ,  4D061EB05 ,  4D061EB14 ,  4D061EB19 ,  4D061EB27 ,  4D061EB28 ,  4D061EB37 ,  4D061EB38 ,  4D061EB39 ,  4D061EC01 ,  4D061EC05 ,  4D061ED06 ,  4D061FA13 ,  4D061FA15 ,  4D061GA04 ,  4D061GA30 ,  4D061GB04 ,  4D061GC12 ,  4D061GC14 ,  4D061GC16 ,  4D062BA10 ,  4D062BA19 ,  4D062BA22 ,  4D062BA24 ,  4D062BB01 ,  4D062CA01 ,  4D062CA20 ,  4D062DA02 ,  4D062DA12 ,  4D062DC01 ,  4D062EA31 ,  4D062FA26
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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