特許
J-GLOBAL ID:200903059362913381

蒸気乾燥法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 本城 雅則 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-202062
公開番号(公開出願番号):特開平6-097149
出願日: 1993年07月23日
公開日(公表日): 1994年04月08日
要約:
【要約】【目的】 イソプロピルアルコール蒸気の多方向の流れを利用して、半導体基板を均等に乾燥する。【構成】 本発明の一実施例では、外部蒸気源30で発生したイソプロピル・アルコール19を、蒸気乾燥システムの半導体基板20の上部28付近の位置に噴射する一方、システム内部で発生したイソプロピルアルコール蒸気18を半導体基板20の下部26に向かわせる。したがって、半導体基板20の上部28および下部26の両方がほぼ同時に乾燥する。
請求項(抜粋):
底面を有するタンク(12,42)を装備する段階;上部(28,58),下部(26,56)および主要表面を有しており、表面に液体が存在する物体(20,50)を設ける段階;物体(20,50)の主要表面がタンク(12,42)の底部表面に対しほぼ直角を成すように、物体(20,50)をタンク(12,42)内に配置する段階;物体(20,50)の下部(26,56)および上部(28,58)がほぼ同時に蒸気(19,18,48)に曝されるように、物体(20,50)を乾燥媒体の多方向蒸気(19,18,48)流に曝す段階;および物体(20,50)の上部(28,58)および下部(26,56)に蒸気(19,18,48)を凝結させて、物体から液体を除去する段階;によって構成されることを特徴とする蒸気乾燥法。
IPC (2件):
H01L 21/304 361 ,  F26B 3/04

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