特許
J-GLOBAL ID:200903059366526501

履帯用ブツシングの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田渕 経雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-271799
公開番号(公開出願番号):特開平5-078745
出願日: 1991年09月25日
公開日(公表日): 1993年03月30日
要約:
【要約】【目的】 浸炭を省略できる履帯用ブッシングの製造方法の提供。【構成】 高炭素低合金鋼を素材とする履帯用ブッシング素材に、外周側から高周波焼入れを施して、ブッシング素材の内周側を有効硬さ以下に維持するとともに外周表面からブッシング素材の内周有効硬化層の一部に至るまでの範囲を有効硬さ以上の硬さにし、ついで内周側から高周波焼入れを施して、外周有効硬化層と前記内周有効硬化層とを形成するとともに両有効硬化層の間に有効硬さ以下の硬さを有する焼もどし層を形成し、ついでブッシュ素材を焼もどしする、履帯用ブッシングの製造方法。高炭素低合金鋼を用いるので、浸炭が不要となる。
請求項(抜粋):
高炭素低合金鋼を素材とする履帯用ブッシング素材に、浸炭および調質を施すことなく、その軸線を中心にして回転させつつ、その外周側に高周波焼入れを施し、該ブッシング素材の内周側を有効硬さ以下に維持するとともに、該外周表面から前記ブッシング素材の内周有効硬化層の一部に至るまでの範囲を有効硬さ以上の硬さにする第1の工程と、ブッシング素材をその軸線を中心にして回転させ、かつ、前記外周側を液冷しつつ、その内周側に高周波焼入れを施し、該ブッシング素材に外周有効硬化層と前記内周有効硬化層とを形成すると共に、該両有効硬化層の間に前記有効硬さ以下の硬さを有する焼もどし層を形成する第2の工程と、前記工程の終了後、前記ブッシング素材を低温焼もどしする第3の工程と、から成ることを特徴とする履帯用ブッシングの製造方法。
IPC (4件):
C21D 9/00 ,  B62D 55/205 ,  C21D 1/10 ,  F16G 13/06
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特公昭63-016314

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