特許
J-GLOBAL ID：200903059397678075
透明導電膜の製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-294249
公開番号（公開出願番号）：特開平8-158041
出願日： 1994年11月29日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：
【要約】【目的】低抵抗,高透過率で、微粒子状付着物のない平滑な透明導電膜を安定的に提供する。【構成】円周部に沿って基板10を配備した回転円板9と、回転円板9の円周部に対向して設置されたInを主体とする金属2を蒸発させる蒸着ボート1と、蒸着ボート1から基板10までの領域を、プラズマ放電させるための装置3,4からなり、蒸着ボートから基板までの間をプラズマ放電させ、酸素を含有するガス雰囲気中で、Inを主体とする金属を蒸着,酸化させる。
請求項（抜粋）：
酸素を含有するガス雰囲気中で、Inを主体とする金属を蒸着ボートから蒸発させ、加熱保持された基板上に、蒸着して透明導電膜を製造する方法において、前記蒸着ボートから前記基板までの間の少なくとも一部を、プラズマ放電領域にすることを特徴とする透明導電膜の製造方法。
IPC (6件)：
C23C 14/08
, C23C 14/24
, C23C 14/32
, H01L 21/203
, H01L 21/68
, H01L 31/08
