特許

J-GLOBAL ID：200903059406545431

高分子型アセタール系溶解阻害剤の製造方法、この製造方法により得られた溶解阻害剤及びポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物

発明者： 加藤 幸治 ,  佐川 正義
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-063282
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256415
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：

【要約】【課題】 保存安定性に優れる高感度、高解像度な化学増幅系ポジ型レジストに用いられる高分子型アセタール系溶解阻害剤とこれを用いた化学増幅系ポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 一般式(I)で表される構造を有する高分子型アセタール系溶解阻害剤の製造方法において、精製工程として、反応生成物を沸点が120°C以上で分子構造にアルコール性水酸基を持たない有機溶剤に溶解させ、蒸留あるいは減圧蒸留を行い不純物及び水分を除去する工程を設ける。【化1】(式中、R1は水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を表し、また、R1及びR2は互いに結合して炭素数2〜5のメチレン鎖を形成していてもよく、mとnとはそれぞれ自然数を表し、0.4≦m/(m+n)≦1.0、かつ、10≦m+n≦200である。)

請求項（抜粋）：

一般式(I)で表される構造を有する高分子型アセタール系溶解阻害剤の製造方法において、精製工程として、反応生成物を沸点が120°C以上で分子構造にアルコール性水酸基を持たない有機溶剤に溶解させ、蒸留あるいは減圧蒸留を行い不純物及び水分を除去する工程を設けたことを特徴とする高分子型アセタール系溶解阻害剤の製造方法。【化1】(式中、R1は水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を表し、R1は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を表し、また、R1及びR2は互いに結合して炭素数2〜5のメチレン鎖を形成していてもよく、mとnとはそれぞれ自然数を表し、0.4≦m/(m+n)≦1.0、かつ、10≦m+n≦200である。)

IPC (8件)：

C08F 6/00 ,  C07C 41/58 ,  C07C 43/307 ,  C08F 8/10 ,  C08F 12/24 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

C08F 6/00 ,  C07C 41/58 ,  C07C 43/307 ,  C08F 8/10 ,  C08F 12/24 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (51件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  4H006AA02 ,  4H006AD11 ,  4H006AD17 ,  4H006BB16 ,  4H006BB17 ,  4H006BB49 ,  4H006BC52 ,  4H006GP01 ,  4H006GP02 ,  4H006GP03 ,  4H006GP12 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100BA02H ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04H ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05H ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06H ,  4J100BA06Q ,  4J100BC04H ,  4J100BC04Q ,  4J100BC53H ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA31 ,  4J100GC35 ,  4J100HA19 ,  4J100HA61 ,  4J100HB25 ,  4J100HC13 ,  4J100HC43 ,  4J100HC71 ,  4J100HE07 ,  4J100HE14 ,  4J100JA38