特許
J-GLOBAL ID:200903059410320592
高純度コバルト粉及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小越 勇 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-260410
公開番号(公開出願番号):特開2001-081507
出願日: 1999年09月14日
公開日(公表日): 2001年03月27日
要約:
【要約】【課題】 アルカリ金属元素、放射性元素、Fe及びNiのみならず、ガス成分等の不純物を極力低減させた高純度コバルト粉を安定してかつ容易に製造できる方法を開発し、積層薄膜を構成する物質の相互拡散に起因する汚染物質の抑制及びパーティクルや異常放電現象が生じないスパッタリングターゲット等に有効である高純度コバルト粉を提供する【解決手段】 不純物を含有するコバルト原料を塩酸で溶解し、塩酸濃度が7〜12Nの塩化コバルト水溶液を、陰イオン交換樹脂と接触させコバルトを吸着させた後、1〜6Nの塩酸を用いてコバルトを溶離し、得られた溶離液を蒸発乾固又は水酸化アンモニウムで中和してコバルトの塩化物又は水酸化物とし、さらに600°C以上の温度で水素還元する高純度コバルト粉及びその製造方法。
請求項(抜粋):
Fe及びNiの各含有量が10ppm以下であることを特徴とする高純度コバルト粉。
IPC (2件):
FI (2件):
B22F 9/24 C
, C23C 14/34 A
Fターム (10件):
4K017AA03
, 4K017BA03
, 4K017EH15
, 4K017EH16
, 4K017EJ01
, 4K017FB03
, 4K017FB06
, 4K029BA06
, 4K029BD02
, 4K029DC09
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