特許
J-GLOBAL ID:200903059419463574

セラミック多層基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP1999002079
公開番号(公開出願番号):WO1999-056510
出願日: 1999年04月19日
公開日(公表日): 1999年11月04日
要約:
【要約】積層した未焼成のグリーンシートの両面に、収縮抑制シートを形成してから焼成し、その後セラミック多層基板2の両面から収縮抑制シートを除去するために、圧縮空気とともに水を吹き付けるか、セラミック粉を吹き付けるか、または水とセラミック粉末を混合したものを吹き付けることにより多層基板を傷つけずに収縮抑制シートを除去するセラミック多層基板の製造方法。
請求項(抜粋):
未焼成グリーンシート積層体の両面に収縮抑制シートを形成する工程と、 両面に収縮抑制シートを形成された前記グリーンシート積層体を焼成する工程と、 焼成された前記グリーンシート積層体両面の収縮抑制シートに対して、セラミック粉末と水とのうちの少なくとも1つを圧縮空気とともに吹き付けることにより、前記収縮抑制シートを除去する工程と から構成されることを特徴とするセラミック多層基板の製造方法。
IPC (1件):
H05K 3/46

前のページに戻る