特許

J-GLOBAL ID：200903059426017431

基板の洗浄方法

発明者： 嵯峨 幸一郎 ,  小谷田 作夫 ,  服部 毅
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-068335
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264500
出願日： 1995年03月27日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【目的】 基板表面に存在する微量の吸着有機物をも除去することができる基板の洗浄方法を提供すること。【構成】 酸性溶液、酸化性溶液あるいはアルカリ性溶液で基板の表面を洗浄する工程を含む基板の洗浄方法の最初の工程が、基板の表面に形成された自然酸化膜を除去する工程である。自然酸化膜を除去する工程が、フッ酸を含む溶液に前記基板を浸漬する工程、フッ酸を含む蒸気中に前記基板を曝す工程であることが好ましい。前記フッ酸を含む溶液としては、フッ酸水溶液、あるいはフッ酸とフッ化アンモニアとを含むバッファードフッ酸溶液などを用いることができる。前記フッ酸を含む蒸気としては、フッ酸水溶液の蒸気、またはフッ酸とフッ化アンモニアとを含むバッファードフッ酸の蒸気などを用いることができる。

請求項（抜粋）：

基板の表面を洗浄する方法において、酸性溶液、酸化性溶液あるいはアルカリ性溶液で前記基板の表面を洗浄する工程を含む基板の洗浄方法の最初の工程が、前記基板の表面に形成された自然酸化膜を除去する工程であることを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08

FI (3件)：

H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 L ,  B08B 3/08 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-211831