特許
J-GLOBAL ID：200903059437042705
CVD装置のクリーニング方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-184460
公開番号（公開出願番号）：特開平11-012739
出願日： 1997年06月24日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：
【要約】【課題】 気化器および処理室のクリーニングに要する合計の時間を短縮して、CVD装置の運転休止時間を短縮する。【解決手段】 気化器8内および処理室26内に生じる残渣を溶かすクリーニング液64をクリーニング液供給装置60から気化器8内に導入しかつそれを加熱器12で加熱することによって、気化器8内の残渣を除去しながら当該クリーニング液64を気化する。更に、この気化器8からのクリーニング液成分を含む排ガス21を処理室26内に導入して当該処理室26内の残渣を除去する。
請求項（抜粋）：
加熱によって液体原料を気化する気化器と、この気化器で気化した原料を用いてCVD法によって基板上に薄膜を形成する処理室とを備えるCVD装置において、前記気化器内および処理室内に生じる残渣を溶かすクリーニング液を前記気化器内に導入しかつ加熱することによって気化器内の残渣を除去しながら当該クリーニング液を気化し、更にこの気化器からのクリーニング液成分を含む排ガスを前記処理室内に導入して当該処理室内の残渣を除去することを特徴とするCVD装置のクリーニング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 J
, H01L 21/205
