特許

J-GLOBAL ID：200903059473056674

非磁性超硬合金

発明者： 桑岡 正雄 ,  印遠 勇 ,  鈴木 正喜
出願人/特許権者： 富士通シンター株式会社
代理人 (1件)： 山川 雅男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-150273
公開番号（公開出願番号）：特開平5-009647
出願日： 1991年06月21日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：

【要約】【目的】本発明は非磁性超硬合金に関し、強度のバラツキを小さくすることを目的とする。【構成】Si 4.5〜30%を含むシリコン・ニッケル合金を0.5〜35%含有し、残部WCからなる非磁性超硬合金。【効果】ニッケルに固溶する元素で磁気変態点を低下させる元素としてシリコンを選択することにより、タングステンカーバイド量の減少を防止し、強度のバラツキを少なくした。

請求項（抜粋）：

Si 4.5〜30%を含むシリコン・ニッケル合金を0.5〜35%含有し、残部WCからなる非磁性超硬合金。

IPC (2件)：

C22C 29/08 ,  H01F 1/00