特許

J-GLOBAL ID：200903059475099990

研磨用組成物

発明者： 三 浦 司 朗 ,  河 村 篤 紀 ,  玉 井 一 誠
出願人/特許権者： 株式会社フジミインコーポレーテッド
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-325619
公開番号（公開出願番号）：特開平10-172937
出願日： 1996年12月05日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：

【要約】【課題】 被研磨面を研磨する速度が大きく、リサイクル使用した場合、使用回数を重ねても被研磨面を研磨する速度の低下が小さく、加工プロセスを安定化することができる研磨用組成物の提供。【解決手段】 コロイダルシリカ、含窒素塩基性化合物および水を含んでなる研磨用組成物であって、その電気伝導率が30〜1500μS/cmであることを特徴とする研磨用組成物。

請求項（抜粋）：

コロイダルシリカ、含窒素塩基性化合物および水を含んでなる研磨用組成物であって、その電気伝導率が30〜1500μS/cmであることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (6件)：

H01L 21/304 321 ,  B24B 37/00 ,  C01B 33/14 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  G11B 5/84

FI (6件)：

H01L 21/304 321 P ,  B24B 37/00 H ,  C01B 33/14 ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  G11B 5/84 A