特許
J-GLOBAL ID：200903059477323995
多層膜形成装置および多層膜形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-175810
公開番号（公開出願番号）：特開平9-059764
出願日： 1996年06月14日
公開日（公表日）： 1997年03月04日
要約：
【要約】【課題】 多層膜の各層の側面を含む表面全体を完全に被覆せしめることにより、多層膜を保護する。【解決手段】 保持板21の載置孔24に、基板Wを取り付けた基板ホルダ19を取付ける。保持板21の下方に、第1の窓H1と開放窓を有する補助板51を設ける。基板ホルダ19に形成した第2の窓H2は、第1の窓H1よりも大きい。第1および第2の窓H1、H2を合致させた状態で多層膜を蒸着により形成する。補助板51を保持板21に対して回転させ、補助板51の開放窓を第2の窓H2に合致させる。この状態で、基板Wに積層されている多層膜の表面全体に保護膜を蒸着させる。
請求項（抜粋）：
真空雰囲気中の膜被形成部材の所要表面領域に多層膜を形成する多層膜形成装置であって、真空槽内に配置した保持板に保持された前記膜被形成部材の第1の表面領域にのみ、飛翔してくる膜形成物質を通過させて膜形成する第1の窓を設けるとともに、この第1の窓の開口より大きい開口を有する第2の窓を設け、前記膜被形成部材の前記第1の表面領域に形成された膜の形成領域を含む第2の表面領域に、飛翔してくる膜形成物質を前記第2の窓の開口を通過させて膜形成するように成したことを特徴とする多層膜形成装置。
IPC (3件)：
C23C 14/24
, G02B 1/11
, G02B 1/10
C23C 14/24 G
, C23C 14/24 T
, G02B 1/10 A
, G02B 1/10 Z
