特許
J-GLOBAL ID：200903059480355407
半導体プロセスの管理方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-156516
公開番号（公開出願番号）：特開平11-354396
出願日： 1998年06月05日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：
【要約】【課題】 半導体製造装置の状態を示す各パラメータの管理基準を最適な値に設定できると共に、集積回路装置の特性に不良箇所が発生した場合、相関関係をもとに、不良要因となった工程や半導体製造装置のパラメータが容易に抽出できる半導体プロセスの管理方法およびその管理装置を提供する。【解決手段】 各半導体製造装置の状態を示す各パラメータのうち集積回路装置の特性との因果関係が技術的に明確になっていないパラメータであっても、統計的に相関を明確にして、各半導体製造装置に対する管理すべき範囲の把握を可能とするとともに、もし集積回路装置の特性に不良箇所が発生した場合においても、記録されている製品データ4と不良発生時点での装置状態データ2とを比較する。
請求項（抜粋）：
半導体からなる集積回路装置の製造工程において、その一工程に対して複数存在する半導体製造装置を用いて前記集積回路装置を製造する際の半導体プロセスの管理方法であって、前記半導体製造装置の作動状態を示す装置状態データを前記半導体製造装置に対応させて記憶する工程と、前記集積回路装置を製造する際に用いた半導体製造装置の装置識別情報を記憶する工程と、その半導体製造装置により製造された集積回路装置の製品データを記憶する工程と、その集積回路装置の製品データの相関関係を求める工程とからなる半導体プロセスの管理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 Z
, G06F 15/21 R
