特許
J-GLOBAL ID：200903059487983632
処理液塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 武彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-126610
公開番号（公開出願番号）：特開平7-328515
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 基板に対して相対移動方向に直交する方向に延びるノズルを有する処理液塗布装置において、基板の部分的な膜厚の増加を抑える。【構成】 レジスト液塗布装置1は、基板保持部2と塗布部3とディスペンサガイド9とを備えている。基板保持部2は、基板を保持する。塗布部3は、基板保持部2に保持された基板の表面に沿って相対移動しながら基板の表面に処理液を供給するためのものであり、相対移動方向に直交する方向に延びるノズルスリット20aを有するノズル20を含む。ディスペンサガイド9は、基板保持部2に保持された基板の処理液供給開始側辺に隣接して設けられている。
請求項（抜粋）：
基板の表面に所定の処理液を塗布するための処理液塗布装置であって、前記基板を保持する基板保持部と、一方向に延びる処理液供給口を有し、前記基板保持部に保持された前記基板の表面に沿って相対移動しながら前記基板の表面に処理液を供給するノズルを含む処理液供給手段と、前記基板保持部に保持された前記基板の処理液供給開始側端縁に隣接しかつ前記処理液供給口に対向し得るように設けられた第1処理液受け部材と、を備えた処理液塗布装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, B05C 5/02
, G03F 7/16 502
, H01L 21/027
