特許
J-GLOBAL ID：200903059490859462
X線露光用マスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-016285
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217862
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、垂直形状のアンダーカットが入らない所望パターンを有するX線露光用マスクとその製造方法を提供することにある。【構成】 本発明に係るX線露光用マスクは、タングステンをX線吸収体とするX線露光用マスクにおいて、タングステンの上面にタングステンを加工する際にエッチングマスクとなるクロム膜またはチタン膜を有し、タングステンの下面にタングステンを加工する際の下地保護膜となる酸化インジウムスズまたは酸化アルミニウムを有することを特徴とし、該X線露光用マスクは、タングステンの加工をクロム膜またはチタン膜をエッチングマスクとしてSF6とCHF3の混合ガスを用いるドライエッチングにより行うことを特徴として製造できる。
請求項（抜粋）：
タングステンをX線吸収体とするX線露光用マスクにおいて、タングステンの上面にタングステンを加工する際にエッチングマスクとなるクロム膜またはチタン膜を有し、タングステンの下面にタングステンを加工する際の下地保護膜となる酸化インジウムスズまたは酸化アルミニウムを有することを特徴とするX線露光用マスク。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
