特許
J-GLOBAL ID：200903059491742356

オルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法

発明者：
平井 元彦

平井 元彦 について

, 
宝田 充弘

宝田 充弘 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 荒井 鐘司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-167949
公開番号（公開出願番号）：特開2002-363408
出願日： 2001年06月04日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：
【要約】【課題】 安定性に優れ、低分子量シロキサン含有量の少ないオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。【解決手段】 下記(A)〜(B)を含有するエマルジョンを平均粒径50〜250nmになるように、乳化分散させて初期エマルジョンを得、このエマルジョンを塩基性触媒の存在下または非存在下で縮重合させ、次いで中和するオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。(A)一般式(1) H-[O-Si(R)2]n-OHで示される末端ヒドロキシオルガノポリシロキサン、(B)官能基含有オルガノアルコキシシラン、(C)界面活性剤、(D)水。
請求項（抜粋）：
下記(A)〜(B)を含有するエマルジョンを平均粒径50〜250nmになるように、乳化分散させて初期エマルジョンを得、このエマルジョンを塩基性触媒の存在下または非存在下で縮重合させ、次いで中和することを特徴とするオルガノポリシロキサンエマルジョンの製造方法。(A)下記一般式(1)H-[O-Si(R)2]n-OH............(1)(式中、Rは炭素数1〜20の置換あるいは非置換の1価炭化水素基、nは10≦n≦200を満足する整数を示す。)で示され、且つ、ケイ素原子数が10以下の環状低分子量シロキサン含有率が5重量%以下である末端ヒドロキシオルガノポリシロキサン、(B)官能基含有オルガノアルコキシシラン、(C)界面活性剤、(D)水。
IPC (2件)：
C08L 83/04 ,  C08G 77/06
FI (2件)：
C08L 83/04 ,  C08G 77/06
Fターム (27件)：
4J002CH032 ,  4J002CP061 ,  4J002EH157 ,  4J002EN027 ,  4J002EN137 ,  4J002EU117 ,  4J002EX026 ,  4J002EX066 ,  4J002EX076 ,  4J002EX086 ,  4J002FD312 ,  4J002FD317 ,  4J035BA03 ,  4J035BA04 ,  4J035CA06U ,  4J035CA11M ,  4J035CA19M ,  4J035CA26M ,  4J035FB01 ,  4J035LA07 ,  4J035LA08 ,  4J035LB01 ,  4J035LB04 ,  4J035LB07 ,  4J035LB08 ,  4J035LB09 ,  4J035LB10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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