特許
J-GLOBAL ID：200903059510522664

大気圧プラズマによる表面処理装置

発明者：
佐伯 登

佐伯 登 について

, 
石倉 康哉

石倉 康哉 について


出願人/特許権者：
パール工業株式会社

パール工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 孝一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-002937
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199697
出願日： 1997年01月10日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 真空条件形成用装置が全く不要で装置全体の小型化および低コスト化を図ることができるとともに、安定よいグロー放電プラズマを発生させて被処理物の大きさや形態のいかんにかかわらず、所定の表面処理を適正かつ容易に行なうことができるようにする。【解決手段】 高周波電源3に接続された放電発生用電極1と、これの周囲を取り囲み、かつ、先端にノズル状のガス出口6を有する円筒状に形成された対電極5とを内外二重に配置して装置全体をトーチ形状とし、両電極1,5の内外周面を無機絶縁物8,9で密着状に被覆させるとともに、大気圧もしくは大気圧近傍圧力下で両電極1,5間に形成の環状放電空間12に少なくともヘリウムガスまたは水素を含むガスを導入させ、放電発生用電極1に高周波電圧を印加することによりスパークやアーク放電等の異常放電を生じることなく、放電空間12に安定なグロー放電プラズマを発生させて、該プラズマにより生成される化学的に活性な励起種を含むガスを被処理物13の表面に向けて照射させるように構成している。
請求項（抜粋）：
放電発生用電極と、対電極と、上記放電発生用電極に高周波電圧を印加する高周波電源とを備え、少なくともヘリウムまたは水素を含むガスを上記放電発生用電極と対電極との間に形成される放電空間に大気圧もしくは大気圧近傍圧力下で導入し通過させるとともに、上記高周波電源から放電発生用電極に高周波電圧を印加することにより上記電極間の放電空間にグロー放電プラズマを発生させ、該プラズマにより生成される化学的に活性な励起種を含むガスを被処理物の表面に照射するように構成されている大気圧プラズマによる表面処理装置であって、上記対電極を上記放電発生用電極の周囲を取り囲み、かつ、その先端にノズル状の出口を有する円筒状に形成するとともに、上記放電発生用電極の外周面および円筒状の対電極の内周面をガラスやセラミック等の無機絶縁物で密着状に被覆していることを特徴とする大気圧プラズマによる表面処理装置。
IPC (2件)：
H05H 1/46 ,  C23C 16/50
FI (2件)：
H05H 1/46 A ,  C23C 16/50
引用特許：
審査官引用 (4件)
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