特許
J-GLOBAL ID:200903059522094951
レーザ繰り返し率増倍器
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松岡 修平
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-566933
公開番号(公開出願番号):特表2002-523905
出願日: 1998年08月20日
公開日(公表日): 2002年07月30日
要約:
【要約】高繰り返し率光学的パルスを生成する装置であって、初期パルス繰り返し率を有する初期パルス光ビームを生成するジェネレータと、前記初期パルス光ビームを受容して前記初期率よりも高いパルス繰り返し率を有する少なくとも1つのパルス光ビームを生成するパルス繰り返し率増倍器と、を含む装置。
請求項(抜粋):
高繰り返し率光学的パルス生成装置であって、 初期パルス繰り返し率を有する初期パルス光ビームを生成するビームジェネレータと、 前記初期パルス光ビームを受けて、そして、前記初期パルス繰り返し率よりも高いパルス繰り返し率を有する少なくとも1つのパルス光ビームを生成するパルス繰り返し率増倍器と、を含む装置。
IPC (4件):
H01S 3/10
, G02B 27/10
, G03F 7/20 505
, H01L 21/027
FI (4件):
H01S 3/10 Z
, G02B 27/10
, G03F 7/20 505
, H01L 21/30 529
Fターム (23件):
2H097AA03
, 2H097CA00
, 2H097CA06
, 2H097CA08
, 2H097CA12
, 2H097CA17
, 2H097LA09
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046CB01
, 5F046CB02
, 5F046CB07
, 5F046CB12
, 5F046CB22
, 5F072AA02
, 5F072HH03
, 5F072HH07
, 5F072JJ07
, 5F072MM07
, 5F072RR01
, 5F072RR05
, 5F072SS06
, 5F072YY08
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