特許

J-GLOBAL ID：200903059527277663

レーザプラズマX線発生装置とそれを用いた微細パターン転写方法および装置

発明者： 山梨 弘将 ,  伊東 昌昭 ,  老泉 博昭 ,  小川 太郎 ,  瀬谷 英一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-006110
公開番号（公開出願番号）：特開平10-208998
出願日： 1997年01月17日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】X線縮小露光の線源として用いられるレーザプラズマX線源において、飛散粒子の光学素子への付着量を低減する。【解決手段】レーザプラズマX線源となるターゲットをX線変換効率を大きく低下させない範囲で1種類以上の金属を含んだ複数の元素で構成することによってターゲットの融点を大きく上昇させる。

請求項（抜粋）：

レーザプラズマから発生するX線領域,極紫外領域あるいは真空紫外領域のビームを照明光学系を介して第一の基板上に照明し、上記第一の基板上に描かれているパターンを結像光学系を介して、第二の基板上に縮小転写させる微細パターン転写方法において、レーザプラズマのターゲット部材が1種類以上の金属を含んだ複数の元素で構成されることを特徴とする微細パターン転写方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 ,  H05H 1/22

FI (4件)：

H01L 21/30 531 S ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X ,  H05H 1/22