走査露光装置及び露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-220445
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055795
出願日： 1990年11月28日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【課題】走査露光時のマスクの移動ストロークを小さく抑えるとともに、感光基板の複数の被露光領域の各々を走査露光する際の処理スループットを最適化する。【解決手段】マスクへの照明光の遮断と開放とを切り替える第1の遮光手段を光源とフライアイレンズとの間に設けるとともに、マスク上での照明光の走査方向の面積を変化させる第2の遮光手段をフライアイレンズと集光光学系との間に設け、感光基板上の各被露光領域に対する走査露光の度に第2の遮光手段を動作させることで、マスク上の不要部分への照明光の照射時間や照射量を低減する。

請求項（抜粋）：

所定形状に制限された照明光で照射されるマスク上の回路パターンの一部の像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記回路パターンの全体を前記感光基板上に所定のシーケンスで走査露光するために前記マスクと感光基板とを前記投影光学系に対して相対移動させる移動手段とを備えた走査露光装置において、露光用光源からの光を入射して2次光源像を作る2次光源生成手段と;該2次光源像からの光を前記所定形状の照明光として前記マスク上に集光する集光光学系と;前記2次光源生成手段と前記集光光学系との間に配置されて前記走査露光のシーケンスに同期して前記照明光のマスク上での照射面積を変化させる遮光手段とを設けたことを特徴とする走査露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 , H01L 21/30 514 B , H01L 21/30 514 C

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