反射防止膜、その製造方法、反射防止膜製造用スタンパ、その製造方法、スタンパ製造用鋳型及びその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梶山佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-233503
公開番号（公開出願番号）：特開2003-043203
出願日： 2001年08月01日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】任意のサイズの反射防止膜及びその反射防止膜を安価に大量生産する方法を提供することである。【解決手段】光透過性プラスチック基体の少なくとも一方の表面に、微細な凹凸を有し、前記凹凸の周期が35nm〜400nmの範囲内であり、かつ、前記凹凸の深さが100nm〜700nmの範囲内であることを特徴とする反射防止膜。この反射防止膜は、Ni基体の一方の表面に、微細な凹凸を有し、前記凹凸の周期が35nm〜400nmの範囲内であり、かつ、前記凹凸の深さが100nm〜700nmの範囲内であるスタンパを用いて光透過性プラスチック樹脂を型押しするか、又はこのスタンパにプラスチック樹脂をキャスティングすることによりスタンパの表面形状が転写された任意のサイズの光透過性プラスチック反射防止膜を安価に大量生産することができる。

請求項（抜粋）：

光透過性プラスチック基体の少なくとも一方の表面に、微細な凹凸を有し、前記凹凸の周期が35nm〜400nmの範囲内であり、かつ、前記凹凸の深さが100nm〜700nmの範囲内であることを特徴とする反射防止膜。

IPC (11件)：

G02B 1/11 , B29C 33/38 , B29C 33/42 , B29C 45/37 , B32B 3/30 , B32B 7/02 103 , G02B 5/02 , B29K 23:00 , B29K 33:04 , B29K 69:00 , B29L 11:00

FI (11件)：

B29C 33/38 , B29C 33/42 , B29C 45/37 , B32B 3/30 , B32B 7/02 103 , G02B 5/02 B , B29K 23:00 , B29K 33:04 , B29K 69:00 , B29L 11:00 , G02B 1/10 A

Fターム (70件)：

2H042BA03 , 2H042BA13 , 2H042BA15 , 2H042BA20 , 2K009AA12 , 2K009BB01 , 2K009CC03 , 2K009CC09 , 2K009CC14 , 2K009CC21 , 2K009CC24 , 2K009CC34 , 2K009CC42 , 2K009DD03 , 2K009DD12 , 2K009DD15 , 4F100AA19D , 4F100AA19E , 4F100AB10D , 4F100AB10E , 4F100AB16D , 4F100AB24D , 4F100AB24E , 4F100AK01A , 4F100AK03A , 4F100AK25A , 4F100AK45A , 4F100AK52D , 4F100AK52E , 4F100AR00B , 4F100AR00C , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA05 , 4F100BA06 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100BA10C , 4F100BA10D , 4F100BA10E , 4F100DD07B , 4F100DD07C , 4F100EH36 , 4F100EH362 , 4F100GB41 , 4F100JN01A , 4F100JN06 , 4F100YY00B , 4F100YY00C , 4F202AA03 , 4F202AA21 , 4F202AA28 , 4F202AF01 , 4F202AG01 , 4F202AG05 , 4F202AG26 , 4F202AH73 , 4F202AJ02 , 4F202AJ09 , 4F202AR13 , 4F202CA11 , 4F202CB01 , 4F202CD02 , 4F202CD24 , 4F202CD30 , 4F202CK11 , 4F202CK43

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