特許

J-GLOBAL ID：200903059553113628

フォトレジスト用酸化チタン微粉末、およびそれを使用するフォトレジスト用組成物

発明者： 丸尾 正剛 ,  匠 伸祐 ,  森部 輝和
出願人/特許権者： 石原産業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360934
公開番号（公開出願番号）：特開平5-163021
出願日： 1991年12月13日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：

【要約】【目的】半導体素子や集積回路構成、さらにはオフセット印刷製版等の作製におけるフォトレジストパターン加工に有用な酸化チタン微粉末およびそれを含有してなるフォトレジスト用組成物を提供する。【構成】平均粒子径が0.005〜0.2μmでかつ粒子表面のOH基が0.2〜20ミリモル/gであるフォトレジスト用酸化チタン微粉末および、それをノボラック樹脂等の感光性樹脂に対して0.05〜20重量%含有させることからなるフォトレジスト用組成物。

請求項（抜粋）：

平均粒子径が0.005〜0.2μmでかつ粒子表面のOH基が0.2〜20ミリモル/gであるフォトレジスト用酸化チタン微粉末。

IPC (5件)：

C01G 23/047 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027