特許
J-GLOBAL ID：200903059569568099
溶射皮膜形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂間 暁 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059173
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222508
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】【目的】 ブラスト処理工程と溶射皮膜形成工程間で被溶射金属の表面に不純物が付着したり、酸化物が生成されることがない溶射皮膜形成方法を実現する。【構成】 被溶射金属表面2に水素を含む高周波誘導プラズマ5を照射した後、溶射粉末粒子4が供給された高周波誘導プラズマ5を照射することによって、被溶射物1の表面処理と溶射皮膜形成を1つのステージで行うことができるため、被溶射物1の移動が不要となり、作業が軽減されるとともに、表面処理工程と皮膜形成工程間での被溶射物表面2の汚れや油の付着や酸化の防止が可能となり、優れた溶射皮膜3の形成が可能となる。
請求項（抜粋）：
水素を含む高周波誘導プラズマを被溶射金属表面に照射し、その後、上記水素の供給を止めて上記プラズマ内に溶射粉末粒子を供給して溶融させ、上記被溶射金属表面に溶射皮膜を形成させることを特徴とする溶射皮膜形成方法。
引用特許：
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