特許
J-GLOBAL ID：200903059570357018
イオン注入装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-233347
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084494
出願日： 1992年09月01日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】イオン注入時の被イオン注入試料中への汚染混入量を減少させるのに好適なイオン注入装置を提供する。【構成】イオンビームによってスパッタされた原子が被イオン注入試料中へ飛び込んで来ないような幾何学的位置構造を設けることによって、汚染原子の量を減少させる。
請求項（抜粋）：
イオン注入装置において、被イオン注入試料を保持するクランプ材の、被イオン注入試料保持位置に立面した側壁上に、1本以上の溝を刻設することを特徴とするイオン注入装置。
IPC (2件)：
H01J 37/317
, H01L 21/265
