特許

J-GLOBAL ID：200903059575465781

セルロース誘導体系化合物及び感光性組成物並びにフォトレジストインク

発明者： 林 寛之 ,  宮山 聡 ,  小田 俊和
出願人/特許権者： 互応化学工業株式会社
代理人 (1件)： 西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-031283
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228640
出願日： 1998年02月13日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 露光後のレジスト被膜が柔軟で、フレキシブル配線板製造用のフレキシブル基材、微細素子製造用途の金属箔などのエッチングレジストインク、あるいはめっきレジストインクとして最適な感光性組成物及びフォトレジストインクを調製することができるようにする。【解決手段】 カルボキシル基を有するセルロース誘導体(a)と、エチレン性不飽和基及び一個のエポキシ基を有する化合物(b)とを反応して得られることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

カルボキシル基を有するセルロース誘導体(a)と、エチレン性不飽和基及び一個のエポキシ基を有する化合物(b)とを反応して得られることを特徴とするセルロース誘導体系化合物。

IPC (8件)：

C08F251/02 ,  C08B 15/00 ,  C09D 11/10 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/038 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/28

FI (8件)：

C08F251/02 ,  C08B 15/00 ,  C09D 11/10 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/032 ,  G03F 7/038 ,  H05K 3/06 H ,  H05K 3/28 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-085347
  
• 特開昭57-018704
  
• 特開昭60-166301
  
• 特開昭57-162702