特許
J-GLOBAL ID：200903059576083998
パターン形成用基体とこのパターン形成用基体を用いたパターン形成方法及びこの方法により製造されたパターン形成体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上田 章三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-328665
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181315
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】電子写真方式により形成されるパターンが帯電時の雰囲気に影響を受け難いパターン形成用基体とパターン形成方法並びにパターン形成体を提供する。【構成】支持体1とこの上に順次設けられた第一導電体層21と光導電体層3と第二導電体層22とを具備するパターン形成用基体の第一導電体層と第二導電体層間に直流電圧を印加して光導電体層を帯電させ、マスクMを介しパターン露光を施して光導電体層に静電潜像パターンを形成した後、光導電体層上の第二導電体層表面にトナーを付着させてパターンを形成する方法。この方法によれば、コロナ等の放電現象を利用した帯電方式を採る必要がないため、湿度や気圧等帯電時の雰囲気如何に拘らず光導電体層に対し安定した帯電電位を与えることが可能となり、トナー現像画素における濃度差を従来に較べて大幅に減少させることが可能となる効果を有している。
請求項（抜粋）：
電子写真方式によりパターンが形成されるパターン形成用基体において、支持体と、この上に設けられた第一導電体層と、この上に設けられた光導電体層と、この上に設けられた第二導電体層とを具備し、かつ、上記第一導電体層及び第二導電体層の少なくとも一方が透明材料により構成されていることを特徴とするパターン形成用基体。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G03G 15/22 103
