特許
J-GLOBAL ID：200903059578553860
金属箔膜の製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-255688
公開番号（公開出願番号）：特開平7-113175
出願日： 1993年10月13日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：
【要約】【目的】 極めて薄く、欠陥のない金属薄膜を生産性よく製造することのできる方法および装置を提供する。【構成】 高分子フィルム支持体上に金属箔膜を形成した複合膜を、支持体を溶解または膨潤する薬剤を用いて処理し、次いで洗浄処理することにより厚さ10μm以下の金属箔膜を製造する。ガイドロール、タッチロールおよび洗浄支持ロールがこの順に配置されており、複合膜の高分子フィルムを溶解または膨潤させる薬剤を塗布するためのタッチロールはガイドロールより下方でかつ高分子フィルム側に接触する位置に設けられ、洗浄支持ロールはタッチロールより下方でかつ複合膜の金属膜面に接触する位置に設けられ、洗浄支持ロールの下方には溶解または膨潤された高分子フィルムを除去するための洗浄液吹き付けノズルが設けられる。
請求項（抜粋）：
高分子フィルム支持体上に金属箔膜を形成した複合膜を、支持体を溶解または膨潤する薬剤を用いて処理し、次いで洗浄処理することにより厚さ10μm以下の金属箔膜を製造する方法。
IPC (2件)：
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