特許

J-GLOBAL ID：200903059586113550

水処理装置

発明者： 田中 喜典 ,  尾持 輝行 ,  西川 壽一 ,  野口 弘之 ,  桑原 正樹
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-091288
公開番号（公開出願番号）：特開2002-282872
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
要約：

【要約】【課題】 使用する原水の供給量や水質等の条件に係わらず添加部における添加剤の添加量を制御して、電解効率や添加剤濃度等が所望のものとなった処理水を得ることができる水処理装置を提供する。【解決手段】 原水流入口及び吐出口の間の流路に、内部に添加剤が充填され、流入口101から流入される水に添加剤103を添加すると共にこの水を流出口102から流出させる添加部4を具備する水処理装置1に関する。添加部4の流入口101と流出口102との位置関係を変更自在に形成することにより、添加部4内を通過する水の経路の長さを変更可能に形成する。

請求項（抜粋）：

原水流入口及び吐出口の間の流路に、内部に添加剤が充填され、流入口から流入される水に添加剤を添加すると共にこの水を流出口から流出させる添加部を具備する水処理装置において、添加部の流入口と流出口との位置関係を変更自在に形成することにより、添加部内を通過する水の経路の長さを変更可能に形成して成ることを特徴とする水処理装置。

IPC (8件)：

C02F 1/68 530 ,  C02F 1/68 ,  C02F 1/68 510 ,  C02F 1/68 520 ,  C02F 1/68 540 ,  C02F 1/46 ,  G01N 33/18 ,  G01N 33/18 106

FI (14件)：

C02F 1/68 530 C ,  C02F 1/68 530 K ,  C02F 1/68 530 L ,  C02F 1/68 510 B ,  C02F 1/68 520 B ,  C02F 1/68 520 C ,  C02F 1/68 520 D ,  C02F 1/68 520 G ,  C02F 1/68 540 A ,  C02F 1/68 540 D ,  C02F 1/68 540 E ,  C02F 1/46 A ,  G01N 33/18 C ,  G01N 33/18 106 B

Fターム (30件)：

4D061DA03 ,  4D061DB07 ,  4D061DB08 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB12 ,  4D061EB17 ,  4D061EB19 ,  4D061EB37 ,  4D061EB38 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061ED13 ,  4D061FA06 ,  4D061FA09 ,  4D061FA12 ,  4D061FA13 ,  4D061GA02 ,  4D061GA06 ,  4D061GA07 ,  4D061GA09 ,  4D061GA21 ,  4D061GA22 ,  4D061GB07 ,  4D061GB21 ,  4D061GB22 ,  4D061GC06 ,  4D061GC14 ,  4D061GC18