特許

J-GLOBAL ID：200903059590654825

曝気槽浸漬型膜分離活性汚泥装置

発明者： 安井 孝行 ,  内野 和博
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 小林 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-112238
公開番号（公開出願番号）：特開平10-296252
出願日： 1997年04月30日
公開日（公表日）： 1998年11月10日
要約：

【要約】【課題】 膜モジュールの洗浄効果に優れ、膜透過水量の経時的減少の抑制が可能な曝気槽浸漬型膜分離活性汚泥装置の提供。【解決手段】 曝気槽に膜モジュールを浸漬し混合溶液を膜ろ過して処理水を得る曝気槽浸漬型膜分離活性汚泥装置であって、鉛直面内に展開される膜モジュールと、該膜モジュールの下方に、膜モジュールの幅方向かつ水平に配設された管状の散気装置とを有し、散気装置の散気孔の孔径が円相当直径で0.5 〜4.0mm で、散気孔が管長手方向に好ましくは開口間隔が3〜10cmで、等間隔に下向きに開口した曝気槽浸漬型膜分離活性汚泥装置。

請求項（抜粋）：

曝気槽に膜モジュールを浸漬し混合溶液を膜ろ過して処理水を得る曝気槽浸漬型膜分離活性汚泥装置であって、鉛直面内に展開される膜モジュールと、該膜モジュールの下方に該膜モジュールの幅方向かつ水平に配設された管状の散気装置とを有し、該散気装置の散気孔の孔径が円相当直径で0.5 〜4.0mm で該散気孔が散気装置の管長手方向に等間隔に下向きに開口したことを特徴とする曝気槽浸漬型膜分離活性汚泥装置。

IPC (3件)：

C02F 1/44 ZAB ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 3/20

FI (3件)：

C02F 1/44 ZAB F ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 3/20 Z