特許

J-GLOBAL ID：200903059598003939

エネルギー感受性レジスト材料およびエネルギー感受性レジスト材料を使用したデバイスの製造方法

発明者： エドウィン アーサー チャンドロス ,  トーマス ザビエル ニーナン
出願人/特許権者： エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
代理人 (1件)： 三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-088686
公開番号（公開出願番号）：特開平9-090638
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：

【要約】【課題】 リソグラフィプロセスにおいて所望通りのパターンを正確に与える収縮の小さいポリマー含有エネルギー線感光性レジスト材料を提供する。【解決手段】 本ポリマーはその反復単位の少くとも10モルパーセントがスルフォンアミド部を含有しこの非含有の場合に比し該レジスト材料が露光により現像塩基性水溶液に対し不溶性から可溶性に変換する下記化学変化の程度を小さくする。例えば、本レジスト材料は露光されると酸を生成する物質を有し、例えば、含有するt-ブトキシカルボニル保護基はこの酸によって切り離され遊離のフェノール性ヒドロキシル基となって該レジスト材料の露光部が非露光部に比し現像塩基性水溶液に対しより可溶性に化学変化し所望パターンを形成する。本材料は前記保護基の切断に起因する収縮を小さくし課題を解決する。

請求項（抜粋）：

ポリマーを含有するエネルギー線感光性材料において、このポリマーは該ポリマーの反復単位の中の少くとも10モル%がスルフォンアミド部であるNHSO2 を有し、該スルフォンアミド部はこのポリマーのペンダント側鎖かまたはそのポリマーのバックボーン主鎖かのいずれかに含有され、さらに約190nmないし370nmの波長範囲の放射線に露光後のこのエネルギー線感光性レジスト材料は前記放射線に露光前の該エネルギー線感光性レジスト材料に比し塩基性水溶液に対し実質的により可溶性となることを特徴とするエネルギー線感光性材料。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-226641
  
• 特開平2-000866
  
• 特開平2-213847
  
• 特開平4-204448