X線露光装置及びこれに用いるX線取出し窓の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-038050
公開番号（公開出願番号）：特開平7-249557
出願日： 1994年03月09日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：

【要約】【目的】本発明は、X線照射時における光電子、オージェ電子の発生を抑制でき、X線取出し窓の機械的強度を高くしより薄膜化にする。【構成】シンクロトロン放射光源(1) から放射されたシンクロトロン放射光(2)をX線取出し窓(4) から取出し、この後にマスク(5) を通してレジスト(6) の塗布された被加工物(7) に照射するX線露光装置において、被加工物(7) に発生するオージェ電子及び光電子の発生エネルギに相当するX線波長をカットするフィルタ(20)をシンクロトロン放射光の光路上に配置し、かつX線取出し窓(4) をSi薄膜を形成してフランジに一体化する。

請求項（抜粋）：

シンクロトロン放射光源から放射されたシンクロトロン放射光をX線取出し窓から取出し、この後にマスクを透過させてレジストの塗布された被加工物に照射するX線露光装置において、前記被加工物に発生するオージェ電子及び光電子の発生エネルギに相当するX線波長をカットするフィルタを前記シンクロトロン放射光の前記X線取出し窓と前記シンクロトロン放射光源との間の光路上に配置したことを特徴とするX線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521

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