特許

J-GLOBAL ID：200903059614619708

走査型露光装置及び走査露光方法

発明者： 西 健爾
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-304785
公開番号（公開出願番号）：特開平11-214302
出願日： 1998年10月12日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：

【要約】【課題】 微細パターンを用いた高精度な露光を高スループットで実現する。【解決手段】 マスクステージRSTの位置がコーナーキューブ31Y1、31Y2、31Y3のいずれかが選択される位置にあれば、干渉計30YでステージRSTのY方向の位置を管理しつつステージRSTと同期して基板ステージをY方向に移動させることによりマスクRのパターンを投影光学系PLを介して基板上に転写でき、マスクを交換することなく、マスク上の複数領域のパターンを基板上に転写できる。また、ステージRSTのY位置は干渉計30Yによりコーナーキューブを介して計測されるので、ステージRSTと基板ステージとの同期移動に先立って、ステージRSTを回転制御しても、正確に露光中のステージRSTのY位置の管理が可能になる。従って、大型マスクを用いることにより大面積な二重露光を行うことによりスループット及び露光精度の向上が可能になる。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを同期移動して、前記マスクのパターンを投影光学系を介して前記基板に転写する走査型露光装置であって、前記投影光学系の物体面側に配置されるマスクステージと;前記投影光学系の像面側に配置される基板ステージと;前記マスクステージに設けられ、前記マスクが同期移動される第1方向と直交する第2方向に沿って配置される複数のコーナーキューブと;前記第1方向に沿って測長ビームを前記マスクステージに向けて照射するとともに、前記マスクステージの前記第2方向の位置に応じて選択される前記複数のコーナーキューブの1つで反射される測長ビームを受光する第1の干渉計とを備える走査型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 516 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-032517
  
• 走査露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-160064   出願人：株式会社ニコン