特許
J-GLOBAL ID:200903059617836955

積層体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-141413
公開番号(公開出願番号):特開2001-030450
出願日: 2000年05月15日
公開日(公表日): 2001年02月06日
要約:
【要約】【課題】ケイ素化合物およびケイ素化合物とエポキシ化合物およびエポキシ化合物同士の反応性を高め、生産性、加工性、耐スクラッチ性に優れ、かつ可撓性、透明性、耐候性、耐水性を同時に満足するケイ素化合物からなる層を有する積層体とその製造方法を提供する。【解決手段】高分子フィルムの少なくとも片面に、少なくともI. 分子内にエポキシ基およびシラノール基を含むケイ素化合物II. エポキシ化合物III. 金属錯体IV. カチオン重合開始剤からなるケイ素化合物とエポキシ化合物を主成分とする樹脂層が積層されている。
請求項(抜粋):
高分子フィルムの少なくとも片面に、少なくともI. 分子内にエポキシ基およびシラノール基を含むケイ素化合物II. エポキシ化合物III. 金属錯体IV. カチオン重合開始剤からなるケイ素化合物とエポキシ化合物を主成分とする樹脂層が積層されてなる積層体。
IPC (8件):
B32B 27/38 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/26 ,  C08G 59/40 ,  C08G 59/68 ,  C09D 5/00 ,  C09D163/00 ,  C09D183/06
FI (8件):
B32B 27/38 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 27/26 ,  C08G 59/40 ,  C08G 59/68 ,  C09D 5/00 C ,  C09D163/00 ,  C09D183/06

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