特許
J-GLOBAL ID：200903059619207637

プラズマ発生用電源装置、該電源装置により構成されたプラズマCVD装置及びプラズマCVD法

発明者：
村田正義

村田正義 について

, 
村田泰子

村田泰子 について


出願人/特許権者：
村田 正義

村田 正義 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-154851
公開番号（公開出願番号）：特開2007-231424
出願日： 2007年06月12日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：
【課題】薄膜太陽電池等の製造に用いられる両面放電型のプラズマCVD装置において、同時に搬入搬出される2枚の基板に、安定して均一な堆積膜を形成することが可能、即ち、両側のプラズマをアンバランス無く、均一に生成することが可能な高周波プラズマ発生用電源、該電源を用いたプラズマCVD装置及び方法を提供すること。【解決手段】両面放電型のプラズマ源に、互いに独立の関係にある2つの高周波電源の出力を供給することにより、両側のプラズマをアンバランス無く、均一に生成することを可能とする。該2つの高周波電源として、パルス変調型電源及びそれぞれに中心周波数の異なるバンドパスフイルターを有する2周波数型電源を用いることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
排気系を備えた真空容器と、この真空容器内に放電用ガスを供給する放電用ガス供給系と、放電用の第1電極と、この第1電極の両面側にそれぞれに対向して配置された第2電極及び第3電極と、該第1電極と第2電極間に高周波電力を供給する第1の高周波電源と、該第1電極と第3電極間に高周波電力を供給する第2の高周波電源と、プラズマ処理すべき第1の基板を該第1電極と第2電極間に配置させ、かつ、プラズマ処理すべき第2の基板を該第1電極と第3電極間に配置させる基板保持手段とを具備し、該第1電極と第2電極間に生成されるプラズマ及び該第1電極と第3電極間に生成されるプラズマを利用して該第1及び第2の基板の表面に薄膜を形成するプラズマCVD装置に用いられるプラズマ発生用電源装置において、前記第1の高周波電源及び第2の高周波電源が、互いに独立の関係にある高周波電力を発生する高周波電源であることを特徴とするプラズマ発生用電源装置。
IPC (3件)：
C23C 16/509 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (3件)：
C23C16/509 ,  H01L21/205 ,  H05H1/46 M
Fターム (26件)：
4K030AA06 ,  4K030BA30 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030KA14 ,  4K030KA17 ,  4K030KA18 ,  4K030KA30 ,  4K030LA16 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AD04 ,  5F045AD05 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AE19 ,  5F045AF07 ,  5F045BB08 ,  5F045CA13 ,  5F045DP11 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH01 ,  5F045EH19 ,  5F045EM01
引用特許：
出願人引用 (2件)

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