特許

J-GLOBAL ID：200903059637252143

転写シミュレータ装置

発明者： 玉田 尚久
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-136909
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008161
出願日： 1994年06月20日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】【目的】 マスクパターンの補正,マスクパターン欠陥の検査などが容易に行なえる転写シミュレータ装置を提供する。【構成】 転写シミュレータ装置は、波長λ2の照明光源と、コンデンサレンズ2と、投影レンズ6と、投影レンズ絞り7と、受光素子13と、データ処理装置14と、液晶マスク12と、液晶制御装置15とを備える。照明光源1の波長λ2は、実際の露光装置における照明光源から発せられる光の波長λ1よりも大きいものである。受光素子13はデータ処理装置14に接続され、液晶マスク12は液晶制御装置15に接続される。データ処理装置14と液晶制御装置15とは接続される。

請求項（抜粋）：

第1の波長λ1の光を用い第1の開口数NA1の光学系を有する露光装置によって行なわれるパターン露光の検証を行なうための転写シミュレータ装置であって、前記第1の波長λ1より長波長である第2の波長λ2の光を発する光源と、前記光源下に配置されたマスクと、前記光源下において前記マスクを上下から挟むように配置され、(λ2/λ1)×NA1で表わされる第2の開口数NA2を有する第1と第2の光学系と、前記第2の光学系下に配置された受光素子と、前記受光素子に接続され、前記受光素子によって検知されたデータを処理するためのデータ処理装置と、を備えた転写シミュレータ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 5/12 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521