特許

J-GLOBAL ID：200903059639731006

基板の薬液処理装置及び薬液処理方法

発明者： 門松 秀樹
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-188446
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015483
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：

【要約】【課題】 基板の薬液処理時に気泡と薬液の反応によりウェーハが変色することを防止することができる基板の薬液処理装置及び薬液処理方法を提供する。【解決手段】 ウェーハ41の薬液処理用の薬液45が充填される薬液処理槽43と、薬液処理槽43内に浸漬され複数のウェーハ41を並べて保持するウェーハ保持カセット42と、ウェーハ41を回転させるウェーハ回転手段47,58,61と、薬液処理槽43内の薬液45を循環させる薬液循環手段49,50,55とを備えたウェーハ41の薬液処理装置40。

請求項（抜粋）：

基板の薬液処理用の薬液が充填される薬液処理槽と、前記薬液処理槽内に浸漬され複数の基板を並べて保持する基板保持カセットと、前記基板を回転させる基板回転手段と、前記薬液処理槽内の薬液を循環させる薬液循環手段とを備えたことを特徴とする基板の薬液処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/304 642

FI (2件)：

H01L 21/306 R ,  H01L 21/304 642 D

Fターム (6件)：

5F043AA01 ,  5F043EE05 ,  5F043EE08 ,  5F043EE21 ,  5F043EE24 ,  5F043EE35