特許

J-GLOBAL ID：200903059645037391

エレクトロスプレー質量分析を用いたマイクロアレイの読取りのためのサンプリングプローブ

発明者： ファン ベルケル、ガリー ジェイ.
出願人/特許権者： ユーティ-バテル エルエルシー
代理人 (4件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠 ,  本田 淳 ,  池上 美穂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-053183
公開番号（公開出願番号）：特開2009-133868
出願日： 2009年03月06日
公開日（公表日）： 2009年06月18日
要約：

【課題】エレクトロスプレーを基にした自動サンプリングシステムおよび分析方法によって、被分析物を有する表面アレイスポットから試料を得る。【解決手段】システムは、少なくとも1個のプローブを含み、そのプローブは、少なくとも1種の溶離溶媒を複数のスポットのそれぞれに流すための入口と、前記被分析物を前記スポットから送出するための出口とを含む。スポットに対してプローブを移動させていずれのスポットのサンプリングも可能にするために、自動位置決めシステムが設けられている。プローブに流動連通する投入口を有するエレクトロスプレーイオン源が、被分析物を受けて、被分析物からイオンを発生させる。イオン源は、被分析物を同定する分析のための構造、好ましくは質量分析計に発生したイオンを提供する。プローブは、アレイスポット表面の周囲に沿って密閉シールを形成する表面接触プローブであってもよい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

表面アレイ上、または表面アレイ内に配置された被分析物を分析する方法において、 少なくとも1種の被分析物を保持するスポットを少なくとも1個含む表面アレイを用意する工程と、 溶離溶媒が前記被分析物の少なくとも一部を前記スポットから送出するように、少なくとも1種の溶離溶媒を前記スポット全体に流動させる工程と、 エレクトロスプレーイオン源を用いて、前記送出される被分析物の少なくとも一部を複数のイオン断片にイオン化する工程と、 前記複数のイオン断片を分析して前記被分析物を分析する工程とを備え、 前記スポットの周囲に密閉された囲いを形成するように適合された多軸表面接触プローブを含む少なくとも1個のプローブが前記流動工程で用いられ、 前記表面接触プローブは前記密閉された囲いを形成するためのオーリングシールを含む方法。

IPC (3件)：

G01N 1/00 ,  G01N 1/28 ,  G01N 27/62

FI (5件)：

G01N1/00 101G ,  G01N1/00 101H ,  G01N1/00 101K ,  G01N1/28 X ,  G01N27/62 F

Fターム (18件)：

2G041CA01 ,  2G041DA05 ,  2G041EA03 ,  2G041EA11 ,  2G041FA10 ,  2G041GA05 ,  2G041GA06 ,  2G041GA19 ,  2G052AA28 ,  2G052AD06 ,  2G052AD32 ,  2G052AD46 ,  2G052CA04 ,  2G052DA08 ,  2G052DA13 ,  2G052FD09 ,  2G052GA24 ,  2G052HC04