特許

J-GLOBAL ID：200903059653885156

プラズマ処理装置

発明者： 西澤 康弘 ,  森田 武志
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-157279
公開番号（公開出願番号）：特開平11-354292
出願日： 1998年06月05日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 マイクロ波を用いたプラズマ処理で、大面積に亘って均一な処理ができない。【解決手段】 マイクロ波の導入窓4と処理されるフィルム状基板12の間に、マイクロ波を反射散乱させるマイクロ波制御板11を設け、その形状や位置を適切に選ぶことにより大面積の均一な処理を可能とする。

請求項（抜粋）：

真空チャンバー内にマイクロ波を導入しプラズマを発生させるプラズマ処理装置においてマイクロ波を導入する窓の近傍にマイクロ波を散乱させる手段を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (5件)：

H05H 1/46 B ,  C23C 16/44 F ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B