特許
J-GLOBAL ID:200903059655153373

磁気抵抗トランスデューサ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川口 義雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-152321
公開番号(公開出願番号):特開平6-097534
出願日: 1993年06月23日
公開日(公表日): 1994年04月08日
要約:
【要約】【目的】 温度変化による測定誤差が小さく、構成の簡素化された磁気抵抗トランスデューサを提供する。【構成】 本発明のトランスデューサは、非磁性で且つ絶縁または半導体材料中に注入された磁性材料粒子を含む少なくとも1つの複合材料層を含む。この層には、少なくとも一方の側面上に堆積された2つの電極が備えられている。粒子の磁化に影響し得る外部磁場がない場合には、それらの磁化はランダムに配向される。十分に高い磁場の作用下では、粒子の磁化はこの磁場の向きに沿って配向され、この層の抵抗率は変化する。この抵抗率を測定することにより磁場が検出される。
請求項(抜粋):
非磁性であり且つ絶縁性または半導体材料中に磁性材料粒子を含む少なくとも1つの複合材料層を含んでおり、前記層が、該層の少なくとも一方の側面上に配置された2つの電極を含むことを特徴とする磁気抵抗トランスデューサ。
IPC (4件):
H01L 43/08 ,  G01R 33/06 ,  G11B 5/39 ,  H01C 10/00
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特許第5043693号
  • 特開平2-040972
  • 特開昭61-234083
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