特許

J-GLOBAL ID：200903059665908194

溶液均一重合によるポリジフェニルシルメチレンの製造方法

発明者： 村上 正志 ,  小川 ▲琢▼哉 ,  櫛引 信男
出願人/特許権者： ダウ コーニング アジア株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-244099
公開番号（公開出願番号）：特開平8-109264
出願日： 1994年10月07日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：

【要約】【目的】 未反応モノマーを容易に除去できる、又はこれを含まないポリジフェニルシルメチレンの製法を提供する。【構成】 1,1,3,3-テトラフェニル-1,3-ジシラシクロブタンをモノマーとしてこれをジフェニルスルホンに溶解させ、後記ポリジフェニルシルメチレン及び1,1,3,3-テトラフェニル-1,3-ジシラシクロブタンが溶解する温度で触媒を添加し又は添加せずに加熱して前記モノマーを重合させるポリジフェニルシルメチレンの製造方法。

請求項（抜粋）：

1,1,3,3-テトラフェニル-1,3-ジシラシクロブタンをモノマーとしてこれをジフェニルスルホンに溶解させ、後記ポリジフェニルシルメチレン及び1,1,3,3-テトラフェニル-1,3-ジシラシクロブタンが溶解する温度で触媒を添加し又は添加せずに加熱して前記モノマーを重合させることを特徴とするポリジフェニルシルメチレンの製造方法。