特許

J-GLOBAL ID：200903059666064941

きのこの栽培方法

発明者： 木田 三郎
出願人/特許権者： 長野木田工業株式会社
代理人 (1件)： 松田 宗久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-145287
公開番号（公開出願番号）：特開平8-308378
出願日： 1995年05月19日
公開日（公表日）： 1996年11月26日
要約：

【要約】【目的】 きのこの栽培に用いたおが屑を主体とする培地を再度用いて、きのこを順調に生育できるきのこの栽培方法を得る。【構成】 きのこの栽培に用いた培地を攪拌してその内部に外気を補給したり、きのこの栽培に用いた培地に水を補給したりしながら、きのこの栽培に用いた培地中のおが屑を充分に醗酵させる。そして、そのおが屑の醗酵熱が消失して、培地が常温状態に戻った後に、その培地に、きのこの種菌を接種して、きのこを収穫するまでに生育する。そして、培地中に含まれる樹脂や樹脂酸等の有害物や強酸性化物を培地外部に排除して、それらの有害物や強酸性化物がきのこの栽培に悪影響を与えるのを防ぐ。それと共に、培地中のおが屑の組成物のセルローズ等の有機物を充分に分解、醗酵させて、そのおが屑からきのこが栄養を余すところなく充分に吸収できるようにする。

請求項（抜粋）：

きのこの栽培に用いたおが屑を主体とする培地を再度用いてきのこを栽培するきのこの栽培方法であって、きのこの栽培に用いた前記培地を攪拌して、前記培地の内部に外気を補給したり、前記培地に水を補給したりしながら、きのこの栽培に用いた前記培地に含まれる醗酵菌を用いて、前記培地中のおが屑を醗酵させ、そのおが屑の醗酵熱が消失して、前記培地が常温状態に戻った後に、その培地を用いてきのこを栽培することを特徴とするきのこの栽培方法。

FI (2件)：

A01G 1/04 Z ,  A01G 1/04 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特公平1-058928
  
• 特開昭47-001304
  
• 特公平4-079610