特許

J-GLOBAL ID：200903059666079140

光ディスク原盤の製造方法

発明者： 宮本 寿樹 ,  永島 道芳 ,  植野 文章 ,  高本 健治 ,  貴志 俊法 ,  阿部 伸也
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-302023
公開番号（公開出願番号）：特開平6-150397
出願日： 1992年11月12日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【目的】 光ディスク原盤の製造方法に関するもので、同一原盤上に深さの異なるピットを有する原盤の製造方法を提供するものである。【構成】 基材1上に形成した第一のフォトレジスト層2と第二のフォトレジスト層3に強度または波長の異なる第一の記録光5と第二の記録光6を用いて深さの異なるピット7、8を形成する。

請求項（抜粋）：

基材上へのフォトレジストの塗布工程、記録(露光)工程、現像工程からなる光ディスク原盤製造方法において、基材上へのフォトレジスト塗布工程時に、基材上に第一のフォトレジスト層を塗布し、その第一のフォトレジスト層の上に第二のフォトレジスト層を重ねて塗布し、記録工程時に第一のフォトレジスト層と第二のフォトレジスト層の両層を露光する強度の第一の記録光と、第二のフォトレジスト層のみを露光する強度の第二の記録光を用いて記録し、現像することにより同一原盤上に深さの異なるピットを形成することを特徴とする光ディスク原盤の製造方法。