特許
J-GLOBAL ID:200903059672999286

難分解性物質含有排水の処理方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 渡辺 喜平 ,  田中 有子 ,  森島 なるみ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-062101
公開番号(公開出願番号):特開2009-214059
出願日: 2008年03月12日
公開日(公表日): 2009年09月24日
要約:
【課題】浮遊物質(SS)濃度の高い排水、塩を含む排水にも対応可能であり、かつ処理装置の小型化、簡素化、使い回しが可能可搬式の装置とすることにより、装置のコストダウンを図ることができる難分解性物質含有水の処理方法を提供する。【解決手段】下記工程(A):(1)難分解性物質の濃度が5〜30,000pg-TEQ/Lの範囲内であり、(2)浮遊物質(SS:Suspended Solid)の濃度が1mg/L以上であり、かつ(3)上記難分解性物質の濃度(pg-TEQ/L)/上記浮遊物質(SS)の濃度(mg/L)の比が2以上である難分解性物質含有水から、孔径が0.001〜1.5μmの範囲内の濾過膜を用いて難分解性物質を除去する工程を含む難分解性物質含有水の処理方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
下記工程(A): (1)難分解性物質の濃度が5〜30,000pg-TEQ/Lの範囲内であり、 (2)浮遊物質(SS:Suspended Solid)の濃度が1mg/L以上であり、かつ (3)上記難分解性物質の濃度(pg-TEQ/L)/上記浮遊物質(SS)の濃度(mg/L)の比が2以上である難分解性物質含有水から、 孔径が0.001〜1.5μmの範囲内の濾過膜を用いて難分解性物質を除去する工程 を含む難分解性物質含有水の処理方法。
IPC (3件):
C02F 1/44 ,  B01D 65/02 ,  C02F 1/72
FI (3件):
C02F1/44 F ,  B01D65/02 ,  C02F1/72 Z
Fターム (43件):
4D006GA03 ,  4D006GA04 ,  4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA61 ,  4D006HA71 ,  4D006KA03 ,  4D006KB13 ,  4D006KC03 ,  4D006KD08 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA22 ,  4D006MC18 ,  4D006MC22 ,  4D006MC33 ,  4D006MC39 ,  4D006MC45 ,  4D006MC54 ,  4D006MC55 ,  4D006MC60 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB70 ,  4D050AA12 ,  4D050AB07 ,  4D050AB13 ,  4D050AB15 ,  4D050AB19 ,  4D050AB31 ,  4D050AB55 ,  4D050BB13 ,  4D050BC01 ,  4D050BD02 ,  4D050BD06 ,  4D050CA09 ,  4D050CA16
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 難分解性物質含有水の処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2005-007274   出願人:出光興産株式会社, ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社
審査官引用 (4件)
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