中性ビーム処理装置及びその方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉岡宏嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-113519
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296398
出願日： 2000年04月14日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】中性ビームの発散を小さく、エネルギーのばらつきを小さくしながら、中性ビームを大口径化および大容量化すること。【解決手段】プラズマ生成室1から引き出したイオンビームを中性化室11で中性化して中性ビームに変換し、この中性ビームを処理室23内の被処理物17に照射するに際して、中性ビームから荷電粒子を分離する荷電粒子分離手段として多孔電極32と永久磁石列31を配置し、中性化室壁8に対して永久磁石列31を同電位に設定し、多孔電極22を正電位に設定し、永久磁石列9の発生する電子サイクロトロン磁場と導波管12から導入されるマイクロ波の相互作用によって中性化室11内にプラズマを発生させて、中性化室11内において平坦な空間電位を形成する。イオンビームが平坦な空間電位で変換されることにより形成される中性ビームは発散が小さく、エネルギーのばらつきが小さくなり、中性ビームの大口径化および大容量化が可能になる。

請求項（抜粋）：

イオン源と、該イオン源からイオンを引き出してイオンビームとするイオン引出し電極と、該イオン引出し電極により引き出されたイオンビームを中性ガスの雰囲気中で中性化して中性ビームに変換する中性化室と、該中性化室内の中性ビームから荷電粒子を分離して中性ビームを通過させる荷電粒子分離手段と、前記中性化室に隣接して配置されて前記荷電粒子分離手段を通過した中性ビームの伝播路上に被処理物を収納する処理室とを備え、前記荷電粒子分離手段は、前記中性化室を画成する中性化室壁に対して正電位が与えられて前記中性ビームを通過させる複数の孔を有する多孔電極と、該多孔電極に隣接して分散配置されて前記多孔電極近傍に多極磁場を形成する複数の磁石列とから構成されてなる中性ビーム処理装置。

IPC (4件)：

G21K 5/02 , H01J 27/02 , H01J 37/08 , H01L 21/3065

FI (4件)：

G21K 5/02 N , H01J 27/02 , H01J 37/08 , H01L 21/302 B

Fターム (13件)：

5C030DD10 , 5C030DE10 , 5C030DG09 , 5F004AA01 , 5F004AA06 , 5F004BA03 , 5F004BA16 , 5F004BA20 , 5F004BB07 , 5F004BB14 , 5F004BD04 , 5F004CA03 , 5F004DA23

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