特許

J-GLOBAL ID：200903059679820621

処理方法

発明者： 高垣 哲也 ,  西塚 弘 ,  内野 敏幸 ,  鳥居 卓爾
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-023080
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186096
出願日： 1986年04月18日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】 処理の信頼性が高く、装置のメンテナンスが容易な処理方法を提供する。【解決手段】 内管2aと外管2bとを有しウエハ5を処理する反応管2内に、その一端からガス11を供給する。ガス11は内管2aの内側を流れてウエハ5を処理し、処理後に反応管2の他端側でガス11は折り返して内管2aと外管2bとの間を流れて反応管2の一端側に流れ、反応管2の外部に排出される。

請求項（抜粋）：

ウエハを処理する反応管内に、前記反応管の一端からガスを供給して前記ウエハを処理し、前記反応管の他端側で前記ガスを折り返して前記反応管の一端側へ流し、前記ガスを前記反応管外へ排出させることを特徴とする処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 D ,  H01L 21/22 511 S ,  H01L 21/31 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-040720
  
• 特開昭62-203330