特許

J-GLOBAL ID：200903059688251605

酸化物超電導複合体及びその製造法

発明者： 下田 修一郎
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-272927
公開番号（公開出願番号）：特開平8-116098
出願日： 1994年10月12日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：

【要約】【目的】 加熱、冷却サイクルを繰り返してもマイクロクラック、剥離等の問題が生ぜず、大型化が容易であり、また超電導体結晶粒子の配向性が高く、良好な超電導特性が得られる酸化物超電導複合体を提供する。【構成】 基材(銀板)1上に、超電導体層2と気孔率が10%以上の多孔質の貴金属層3とが交互に積層された多層構造の酸化物超電導複合体及び基材上に、超電導体用前駆体と熱処理により気孔率が10%以上となる多孔質の貴金属の膜を形成した後熱処理を行い、次いでこの工程を繰り返し行い多層体とした後、焼成する酸化物超電導複合体の製造法。

請求項（抜粋）：

基材上に、超電導体層と気孔率が10%以上の多孔質の貴金属層とが交互に積層された多層構造の酸化物超電導複合体。

IPC (10件)：

H01L 39/02 ZAA ,  C01G 1/00 ,  C01G 29/00 ZAA ,  C04B 35/45 ZAA ,  C04B 41/90 ZAA ,  H01B 12/06 ZAA ,  H01B 13/00 565 ,  H01F 6/00 ,  H01L 39/24 ZAA ,  H05K 9/00

FI (2件)：

C04B 35/00 ZAA K ,  H01F 7/22 J