特許
J-GLOBAL ID:200903059693898811

高清浄性意匠部材及び意匠部材の清浄化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡部 温
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-174381
公開番号(公開出願番号):特開平9-078274
出願日: 1996年06月14日
公開日(公表日): 1997年03月25日
要約:
【要約】【課題】 雨水や簡単なシャワーによる洗浄だけでも十分に清浄性を維持でき、かつ意匠性が損なわれない高清浄性意匠部材を提供する。【解決手段】 本発明の高清浄性意匠部材は、美的処理の施された基材と、この基材の表面に形成された光半導体を含む表面層と、を備える。そして、部材の表面が水との接触角10°未満の親水性を示し、該表面層の厚さが0.2μm 未満であることを特徴とする。部材の表面が十分に親水性であれば、付着した汚れも、水すすぎ、軽く擦る程度で落ちる。光半導体を含む表面層の厚さを0.2μm 未満とする理由は、美感を損なう白濁や干渉縞を起さないようにするためである。
請求項(抜粋):
美的処理の施された基材と、この基材の表面に形成された光半導体を含む表面層と、を備え、その表面が水との接触角10°未満の親水性を示し、該表面層の厚さが0.2μm 未満であることを特徴とする高清浄性意匠部材。
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特開昭63-100042
審査官引用 (1件)
  • 特開昭63-100042

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