特許

J-GLOBAL ID：200903059717178343

溶液製膜方法

発明者： 永原 知明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小林 和憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-083464
公開番号（公開出願番号）：特開2006-264027
出願日： 2005年03月23日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：

【課題】 光学ムラ及び横ダンムラの発生が抑制されているTACフィルムを得る。【解決手段】 TACと溶媒と添加剤とからドープを調製する。流延ダイ30から回転ドラム31上に吐出速度20m/分で流延する。ドープは、流延ビード38を形成して回転ドラム31上で流延膜39となる。流延ビード背面38aの近傍領域Aのガス濃度を30%とする。減圧チャンバ36により流延ビード背面38aの減圧度を大気圧-500Paとする。流延膜39が回転ドラム31上で自己支持性を有するものとなった後に剥ぎ取りフィルムを得る。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

流延ダイから支持体上にドープから流延ビードを形成して流延し、前記流延ビードの流延背面から減圧チャンバを用いて、前記流延ビード背面を減圧にする溶液製膜方法において、 前記減圧チャンバの前記流延ドープ近傍のガス濃度を80%以下にすることを特徴とする溶液製膜方法。

IPC (3件)：

B29C 41/50 ,  B29C 41/26 ,  G02B 5/30

FI (3件)：

B29C41/50 ,  B29C41/26 ,  G02B5/30

Fターム (24件)：

2H049BA06 ,  2H049BB33 ,  2H049BB49 ,  2H049BB63 ,  2H049BC01 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22 ,  4F205AA01 ,  4F205AC05 ,  4F205AH73 ,  4F205AJ02 ,  4F205AM28 ,  4F205AM32 ,  4F205AR02 ,  4F205AR08 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC02 ,  4F205GC07 ,  4F205GF24 ,  4F205GF30 ,  4F205GN21 ,  4F205GN24 ,  4F205GN29

引用特許：

出願人引用 (1件)

• セルロースエステルフィルムの製造方法、無限移行する無端の金属支持体面を清掃する方法、セルロースエステルフィルム及び偏光板用保護フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-214130   出願人：コニカ株式会社