アンモニア含有排水の浄化方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松永孝義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-243466
公開番号（公開出願番号）：特開2002-052381
出願日： 2000年08月10日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：

【要約】【課題】排水中のNH3濃度やストリッピング塔への排水の供給量が変動しても触媒塔出口でのN2O濃度が高くならず、有害物質の発生量が極めて少ないアンモニア含有排水の処理方法と装置を提供すること。【解決手段】 NH3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3含有排水からNH3を気相中に移行させた後NH3を含むガスを加熱し、加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触させてNH3を窒素と水に分解する。該分解工程で発生したガス中のN2O濃度が所定の範囲になるように触媒層でのガス流量を調整する工程又は触媒層でのガスの接触時間を調整する工程のいずれかの調整工程を含むNH3含有排水を無害化する方法である。

請求項（抜粋）：

アンモニア(NH3)含有排水中の前記NH3を無害化するNH3含有排水の浄化方法において、前記NH3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3含有排水からNH3を気相中に移行させる工程と、該NH3を気相中に移行させる工程で発生したNH3を含むガスを加熱する工程と、該加熱工程で加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触させて前記NH3を窒素と水に分解する工程と、該分解工程で発生したガス中のN2O濃度が所定の範囲になるように触媒層でのガス流量を調整する工程又は触媒層でのガスの接触時間を調整する工程のいずれかの調整工程を含むことを特徴とするNH3含有排水の浄化方法。

IPC (3件)：

C02F 1/20 ZAB , B01D 53/86 , B01J 23/652

FI (3件)：

C02F 1/20 ZAB B , B01D 53/36 E , B01J 23/64 103 M

Fターム (53件)：

4D037AA13 , 4D037AB12 , 4D037BA23 , 4D037BB05 , 4D048AA08 , 4D048AB01 , 4D048AB02 , 4D048AB03 , 4D048BA03Y , 4D048BA06X , 4D048BA06Y , 4D048BA07X , 4D048BA07Y , 4D048BA11Y , 4D048BA23X , 4D048BA23Y , 4D048BA26Y , 4D048BA27X , 4D048BA27Y , 4D048BA30X , 4D048BA30Y , 4D048BA31Y , 4D048BA33Y , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA01A , 4G069BA04A , 4G069BA07A , 4G069BB06A , 4G069BB06B , 4G069BC50A , 4G069BC50B , 4G069BC54A , 4G069BC54B , 4G069BC59A , 4G069BC60A , 4G069BC60B , 4G069BC71A , 4G069BC72A , 4G069BC74A , 4G069BC75A , 4G069CA10 , 4G069CA11 , 4G069CB81 , 4G069DA06 , 4G069FA02 , 4G069FB15 , 4G069FB16 , 4G069FB17 , 4G069FB19 , 4G069FB20 , 4G069FB30 , 4G069FB66

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