高圧酸化処理方法及び高圧酸化炉

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-321130
公開番号（公開出願番号）：特開平6-204210
出願日： 1987年12月16日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：

【要約】【目的】水素ガスと酸素ガスとの燃焼により得られた高圧な水蒸気により半導体ウエハに対して湿式酸化処理を行うにあたり、安全性を確保すること。【構成】燃焼部用ヒータ23及び酸化膜生成部用ヒータ26が周囲に配置されて燃焼部及び酸化膜生成部が形成された反応用炉心管19を、耐圧容器11内に収納すると共に、熱電対を備えた温度検出手段28a、28bにより夫々の温度を直接検出し、燃焼部における検出温度が、酸素ガス及び水素ガスの燃焼温度になった後これらガスを反応用炉心管19内に導入する。

請求項（抜粋）：

酸素ガス及び水素ガスを燃焼して高圧な水蒸気を生成する燃焼部と、前記水蒸気により被処理体に対して酸化膜生成処理を行う酸化膜生成部とが内部に形成される反応用炉心管を耐圧容器内に設けてなる高圧酸化炉において、前記反応用炉心管内の燃焼部に熱電対を設けて前記燃焼部の温度を直接検出し、前記熱電対の検出温度が酸素ガス及び水素ガスの燃焼温度になった後、酸素ガス及び水素ガスを燃焼部に供給することを特徴とする高圧酸化処理方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭63-263730
特開昭52-154360

前のページに戻る